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拋光與等離子拋光的比較

來源： 時(shí)間：2024-07-02 07:30:44 瀏覽次數(shù)：

拋光與等離子拋光的比較

拋光和等離子拋光是兩種常見的表面處理方法，它們?cè)诓煌I(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。下面我們將對(duì)拋光和等離子拋光進(jìn)行比較，了解它們的優(yōu)缺點(diǎn)和適用領(lǐng)域。 1. 拋光是利用磨料和研磨機(jī)械對(duì)材料表面進(jìn)行摩擦磨擦，以達(dá)到改善材料表面光潔度和平整度的目的。而等離子拋光是通過等離子體以高頻率和高能量沖擊材料表面，去除表面污染物和不規(guī)則凸起物。

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